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新闻动态  
金相试样制备流程
发布日期:2017-7-11 11:13:37
 

金相试样的制备流程一般分为以下5个步骤:
1.取样:
---试样大小要以便于握持、易于磨制,通常Φ15mm×15~20mm的圆柱体边长15-25mm的立方体。对形状特殊或尺寸细小不易握持的试样,要进行镶嵌或机械夹持。
详细请参考《
金相试样取样方法
2. 镶样:
---分冷镶嵌和热镶嵌二种,镶嵌材料有胶木粉、电玉粉等 。胶木粉不透明,有各种颜色,比较硬,试样不易倒角,但耐腐蚀性能比较差;电玉粉为半透明或透明的,耐腐蚀性能好,但较软。用这两种材料镶样均需用专门的镶样机加压加热才能成型。
----对温度及压力极敏感的材料(如淬火马氏体与易发生塑性变形的软金属),以及微裂纹的试样,应采用冷镶、洗涤后可在室温下固化,将不会引起试样组织的变化。环氧树脂、牙托粉镶嵌法对粉末金属,陶瓷多孔性试样特别适用。
详细请参考《
金相试样镶嵌方法
3. 磨光:
---粗磨:整平试样,并磨成合适的形状,通常在砂轮机上进行。
---精磨:常在砂纸上进行。砂纸分水砂纸和金相砂纸。通常水砂纸为SiC磨料不溶于水,金相砂纸的磨料有人造刚玉、碳化硅、氧化铁等,极硬、呈多边棱角,具有良好的切削性能,精磨时可用水作润滑剂手工湿磨或机械湿磨,通常使用粒度为240、320、400、500、600五种水砂纸进行磨光后即可进行抛光,对于较软金属,应用更细的金相砂纸磨光后再抛光。 
详细请参考《
金相试样磨抛方法
4. 抛光:
---使磨光留下的细微磨痕成为光亮无痕的镜面。
---粗抛:除去磨光的变形层,常用的磨料是粒度为10~20μm的α-Al2O3、Cr2O3或Fe2O3,加水配成悬浮液使用。目前,人造金刚石磨料已逐渐取代了氧化铝等磨料。
----精抛(又称终抛):除去粗抛产生的变形层,使抛光损伤减到最小。要求操作者有较高的技巧。
注意事项:在磨抛过程中要根据材料的不同选择适合的添加辅料,以免造成使用不当的辅料对材料产生化学反应,如铝材绝不能用氧化铝抛光粉,否则会产生化学反应,引起材料组织结构变化,从而影响试验数据及结果等。
5. 金相试样的化学腐蚀
----将已抛光好的试样用水冲洗干净或用酒精擦掉表面残留的脏物,然后将试样磨面浸入腐蚀剂中,或用竹夹子或木夹夹住棉花球沾取腐蚀剂在试样磨面上擦拭,抛光的磨面即逐渐失去光泽;待试样腐蚀合适后马上用水冲洗干净,用滤纸吸干或用吹风机吹干试样磨面,即可放在显微镜下观察。高倍观察时腐蚀稍浅一些,而低倍观察则应腐蚀较深一些。
详细请参考《
金相试样侵蚀方法
6.智能自动制样设备方案
-----取样:
智能自动金相切割机 ZQ系列 (ZQ-80/ZQ-100/ZQ-200/ZQ-300) 。 
-----镶嵌:
智能自动金相镶嵌机 ZXQ 系列ZXQ-100)。
-----磨抛:
智能自动金相磨抛机 ZMP 系列ZMP-2000)。

 
 
   
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